第三代半导体材料是以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、氧化锌(ZnO)、金刚石、氮化铝(AlN)等为主的材料,禁宽带,全组分直接带隙。目前应用端,比较成熟或者典型的,以SiC、GaN为主。这类材料在新能源车和5G时代扮演的角色相当重要。它的优点很多,抗高温、高功率、高压、高频、高辐射,比Si基半导体节约一半能耗,体积减少75%,适合做高功率、高温、抗辐射、高密度集成电路。